Samsung Electronics запускает новую линию производства полупроводников
Компания Samsung Electronics объявила о планах по увеличению производственных мощностей на новой линии завода в Пхёнтхэк (Южная Корея), в целях удовлетворения растущего во всем мире спроса на решения c применением технологии EUV (литографии в глубоком ультрафиолете, extreme ultraviolet).
Основное внимание новой линии, строительство которой уже началось, будет уделено EUV-решениям, выполненным по 5-нанометровому и еще более тонким техпроцессам. Линия будет играть ключевую роль в расширении использования компанией самых современных технологических процессов для множества решений текущего и следующего поколений, включая 5G, высокопроизводительные вычисления (HPC) и искусственный интеллект (ИИ). Запуск в эксплуатацию запланирован на вторую половину 2021 года.
Запустив массовое производство EUV-решений по 7-нм техпроцессу в начале 2019 года, Samsung недавно приступила к серийному изготовлению чипов для EUV на новой линии в Хвасоне, Корея. Ожидается, что с началом полной эксплуатации нового завода в Пхёнтэке в 2021 году мощность производства EUV-решений Samsung значительно возрастет.
Samsung намерена запустить массовое производство EUV-решений по 5-нм техпроцессу на заводе в Хвасоне во второй половине этого года. С учетом объекта в Пхёнтхэке у Samsung будет в общей сложности семь линий по производству полупроводников в Южной Корее и США, в том числе шесть с использованием 12-дюймовых подложек и одна с использованием 8-дюймовых подложек.
