Canon бросит вызов ASML — компания наладит выпуск машин для производства чипов с передовой литографией, но без EUV
Японская Canon разрабатывает литографическое оборудование нового поколения для выпуска полупроводников, способное конкурировать с продукцией голландской ASML, являющейся практически монополистом на рынке подобных решений. Строительство нового завода в Японии также станет ответом на инвестиции конкурентов в соответствующую сферу в США, Южной Корее и на Тайване.
Источник изображения: Canon
Ожидается, что объёмы инвестиций составят $345 млн, включая стоимость строительства и установку производственного оборудования. Завод начнёт производство уже весной 2025 года. В результате компания удвоит свои производственные мощности в данной нише. Компания не просто намерена расширить производство, но и делает ставку на новые технологии, благодаря которым можно будет выпускать полупроводники нового поколения по низким ценам. Сегодня она выпускает литографическое оборудование на двух заводах в Японии, которое используется для выпуска чипов, например, для систем управления автомобилями.
Новый завод будет построен на участке площадью 70 тыс. м2 на территории уже существующего производства. Это будет первый новый завод по выпуску литографического оборудования, построенный Canon за 21 год, возведение начнётся в 2023 году. Ожидается, что в 2022 году продажи литографического оборудования год к году вырастут на 29 % до 180 машин — вчетверо больше показателей десятилетней давности. Новый завод позволит удовлетворить растущий спрос.
По данным World Semiconductor Trade Statistics, в прошлом году мировой рынок полупроводников впервые в истории превысил $500 млрд, В индустрии ожидают, что в 2030 году он превысит $1 трлн. Сегодня Canon контролирует 30 % мирового рынка литографического оборудования по объёму, уступая только ASML, на долю которой приходится 60 %. Intel и Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) анонсировали планы построить новые собственные заводы в США и других странах. Их примеру решила последовать и Canon.
Компания также разработала технологию следующего поколения, называемую наноимпринтной литографией. Это позволяет выпускать самые передовые микросхемы по более низким ценам в сравнении с уже действующим литографическим оборудованием. Процесс упрощён благодаря методике, позволяющей буквально «штамповать» рисунки интегральных схем, что позволяет существенно снизить стоимость производства — в разработке технологии принимали участие японские Kioxia и Dai Nippon Printing.
Сегодня самой незаменимой является технология, использующая EUV-литографию для формирования схем на нанометровом уровне. Единственным источником подобных технологий сегодня является нидерландская ASML. Тем не менее подобное оборудование дорого, стоит около $138 млн за машину и потребляет много энергии. Если наноимпринтная литография достигнет стадии практического коммерческого использования, в Canon рассчитывают, что сокращение себестоимости литографии составит до 40 %, а энергопотребления — до 90 % в сравнении с EUV. Это позволит пошатнуть с доминированием ASML на рынке.
